9月15日，美國對華為的禁令正式生效，華為手機陷入了無芯可用的困境。然而出人意料的是，9月17日，出席第23屆中國集成電路制造年會(CICD 2020)暨廣東集成電路產業發展論壇的阿斯麥（ASML）全球副總裁沈波在題為《ASML支持集成電路行業發展的技術路線圖》報告中明確表示：作為全球半導體行業的合作伙伴，未來ASML將會加快在中國市場的布局。

眾所周知，ASML是全球唯一能生產 EUV（極紫外線）的荷蘭廠商。其制造的光刻機被譽為半導體行業“皇冠上的明珠”。憑借可支持7nm、5nm兩種工藝的NXE:3400B和改進型的NXE:3400C光刻機，ASML成為了獨霸全球的光刻機壟斷廠商。

驕傲的ASML 曾公開揚言，就算公開圖紙也不怕被山寨。ASML 的首席執行官 Peter Wennink 還特意解釋了為什么不怕中國模仿出光刻機：“這是因為我們是系統集成商，我們將數百家公司的技術整合在一起，為客戶服務。這種機器有 80000 個零件，其中許多零件非常復雜。”如此露骨的話術，只表達了一個意思：最先進的光刻機制造非我莫屬！

然而此次ASLM的官宣為何會出現如此之大的反轉？

從沈波的報告中，可以清楚地看出端倪：“半導體行業發展迎來了眾多領域的新機會，目前在數據、云端計算、人工智能AI方面帶來了新的應用和服務。”“中國將成為全球成熟制程芯片最大市場，在成熟制程芯片的智造領域，ASML提供差異化的解決方案，共同推進行業創新和增長 。”其長篇報告概括起來就是一句話：商機無限的中國市場對ASML極為重要。

事實的確如此，IT產業的高速發展，為半導體行業提供了越來越多的機會，而作為芯片消費大國，中國的芯片消費量超過了美歐日的總和，占全球芯片總需求量的50%左右。據海關總署統計，2019年我國芯片的進口金額為3040億美元，折合人民幣2萬億左右，遠超排名第二的原油進口額。而且隨著中國IT產業的井噴式發展，中國對7nm以下芯片的需求將越來越大，而目前7nm以下芯片制造最重要的關鍵設備只有ASML生產的支持7nm、5nm兩種工藝的光刻機。如果ASML不加快布局，將失去中國這個全球最大的市場，其壟斷地位或將不保。這是ASML官宣布局中國的第一個動因。

其二，中國雖然芯片需求量巨大，但目前代表著國產光刻機最高水平的是上海微電子裝備的90nm光刻機。而其生產的第一臺28nm工藝的國產沉浸式光刻機預計將于2021-2022年才能交付。所以，這個時間點對ASML而言，是一個不可多得的窗口期。

其三，雖然中國光刻機制造起步晚，目前水平較低，但國產光刻機從90nm一舉突破到28nm的速度很快，進步很大，屬于重大突破。鑒于華為斷芯事件，現在國內半導體企業正在只爭朝夕，奮力追趕。華為和比亞迪等更是加大投入，日以繼夜的加緊攻關。中科院也正式宣布，要集中力量攻克光刻機、關鍵材料等重點技術，幫助國內科技企業擺脫被西方國家卡脖子的命運。如果中國能夠盡快在光刻機技術上取得更大的突破，勢必逐漸打破ASML對全球光刻機的壟斷。因此，ASML布局中國市場的愿望非常迫切。

其四，雖然ASML的光刻機仍是當前加工芯片最重要的關鍵設備，但隨著摩爾定律逐漸見頂，第一第二代半導體瓶頸明顯，難以適應新興產業的發展需求。5G 開啟萬物互聯的時代，第三代半導體將呼之欲出。第三代半導體核心應用功率將出現爆發式增長，前景光明。所以美歐日和中國都正在加大第三代半導體的研發力度。中國有如此龐大的市場需求，且自給率不足 20%，擁有很大的國產替代空間。而且重要的是，第三代半導體對以ASML為代表的先進制程的光刻機設備的依賴性不強，中國半導體換道超車的可能性很大。因此，ASML如再不加快布局中國市場，不僅將再無機會，而且最終會被淘汰出局。

從ASML官宣可以看到其釋放的兩個信息：一、中國市場對ASML非常重要。二、ASML有可能會選擇繞開美國，向中國銷售光刻機。第二個信息對國內半導體行業，特別是芯片制造業擺脫當下的困境無疑是重大利好。但國內半導體行業必須清楚地認識到：關鍵設備、零部件、核心技術仍然必須以自力更生為主，做到自主可控，切不可重返受制于人的老路！

盡管中國半導體行業遭遇了外部前所未有的重壓，但重壓更有利于激發斗志。特別是第三代半導體將寫入中國“十四五”規劃，著力推進先進半導體行業發展已上升至國家戰略層面。相信只要半導體行業加快技術攻關的步伐，努力拼搏，斷芯之痛必將成為歷史。中國最終將打破一切壟斷，發展成為全球舉足輕重的科技強國。

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